ผลิตภัณฑ์อัลลูมิเนียที่ปรับปรุงให้เหมาะกับส่วนประกอบที่มีอุณหภูมิสูงและทนทานต่อการกัดกร่อน

ผลิตภัณฑ์อลูมินาที่ปรับแต่งสำหรับส่วนประกอบที่ทนต่ออุณหภูมิสูงและการกัดกร่อน

ส่วนประกอบเซรามิกอลูมินาที่มีความแม่นยำสูงของเราใช้วัสดุ Al₂O₃ บริสุทธิ์พิเศษ (ความบริสุทธิ์ ≥95%) ที่ออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการใช้งานเครื่องมือวัดที่มีความแม่นยำ ด้วยพื้นผิวระดับนาโนเมตร (Ra ≤0.05μm) และความแม่นยำของมิติระดับไมครอน (±0.005 มม.) ส่วนประกอบเหล่านี้จึงตรงตามข้อกำหนดที่เข้มงวดที่สุดในอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เครื่องมือวัดทางแสง และอุปกรณ์ทางการแพทย์

การใช้งานหลัก

• การผลิตเซมิคอนดักเตอร์: แขนจับเวเฟอร์, แผ่นบุผนังห้องสุญญากาศ, หัวฉีดพลาสมา

• เครื่องมือวัดทางแสง: ฐานยึดกระจกเลเซอร์, ชุดสลิตสเปกโตรมิเตอร์, แพลตฟอร์มอ้างอิงอินเตอร์เฟอโรมิเตอร์

• อุปกรณ์วิเคราะห์ทางการแพทย์: แหล่งกำเนิดไอออนแมสสเปกโตรมิเตอร์, คอลัมน์เซรามิกโครมาโตกราฟี, โมดูลเทอร์มอลไซคลิง PCR

• การวิจัยทางวิทยาศาสตร์: หน้าแปลน UHV, แพลตฟอร์มการทดลองไครโอเจนิก, ออปติกส์การแผ่รังสีซินโครตรอน

• มาตรวิทยาอุตสาหกรรม: ปลายหัววัด CMM, บล็อกอ้างอิงโปรไฟล์มิเตอร์พื้นผิว, จานหมุนเครื่องวัดความกลม

คุณสมบัติที่โดดเด่น

: การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิก Class 100: ความแม่นยำของโปรไฟล์ ≤0.1μm, ความคลาดเคลื่อนเชิงมุม ±5 อาร์คเซค
ความทนทานต่อสภาพแวดล้อมความเสถียรเป็นพิเศษ: CTE 7.2±0.1×10⁻⁶/℃ (20-100℃)
ความทนทานต่อสภาพแวดล้อมพื้นผิวที่สะอาดเป็นพิเศษ: ปริมาณไอออนโลหะ <1ppmr /> การปรับแต่งฟังก์ชันการทำงาน: โซนนำไฟฟ้า/ฉนวน/ป้องกันไฟฟ้าสถิตแบบบูรณาการ
ความทนทานต่อสภาพแวดล้อม: ความทนทานต่อรังสี >10⁶Gy, อัตราการคายก๊าซ <10⁻¹¹Pa·m³/sข้อมูลจำเพาะทางเทคนิคพารามิเตอร์

ข้อมูลจำเพาะ

การอัดแบบไอโซสแตติก

1. : การอัดแบบไอโซสแตติกเย็น 200MPaการเผาผนึกในบรรยากาศ

2. : การเผาผนึกในบรรยากาศไฮโดรเจนที่ 1700℃การตัดเฉือนที่มีความแม่นยำสูง

3. : 5-axis slow wire EDM + การเจียรด้วยเพชรการแปรรูปในห้องคลีนรูม

4. : การทำความสะอาดด้วยอัลตราโซนิก Class 100การตรวจสอบเต็มรูปแบบ

5. : การตรวจสอบมิติที่สมบูรณ์ด้วย White light interferometry + CMMการใช้งานและการบำรุงรักษา

6. • ใช้เครื่องมือห้องคลีนรูมเฉพาะและถุงมือ ESD ระหว่างการติดตั้ง • อุณหภูมิการทำงานที่แนะนำ: -60℃ ถึง 450℃

• หลีกเลี่ยงสารกัดกร่อนที่รุนแรง (HF, กรดฟอสฟอริกเข้มข้นร้อน ฯลฯ)

• แนะนำให้ทำความสะอาดด้วยพลาสมาทุกๆ 500 ชั่วโมงการทำงาน
• สภาวะการจัดเก็บ: 22±1℃, 45±5% RH
คำมั่นสัญญาในการให้บริการ
✔ ให้คำปรึกษาด้านเทคนิคการใช้งานฟรี
✔ บริการเร่งด่วน 72 ชั่วโมง

✔ การติดตามประสิทธิภาพผลิตภัณฑ์ 10 ปี
✔ ตัวเลือกการบรรจุภัณฑ์ในห้องคลีนรูม + การจัดส่งแบบไนโตรเจน
คำถามที่พบบ่อยทางเทคนิค
ถาม: คุณสามารถตรงตามมาตรฐานพื้นผิวออปติคัล ISO-10110 ได้หรือไม่?
ตอบ: สามารถทำความเรียบของออปติคัลได้ถึง λ/20@632.8nm

ถาม: คุณมีโซลูชันเซรามิกนำไฟฟ้าหรือไม่?

ตอบ: ความต้านทานพื้นผิวที่ปรับแต่งได้ 10⁴-10¹⁰Ω
ถาม: ขนาดชิ้นเดียวสูงสุดคือเท่าใด?

ตอบ: ความสามารถปัจจุบัน 300×300×50 มม. (มีชุดประกอบขนาดใหญ่กว่า)
ถาม: ประสิทธิภาพ UHV รับประกันได้อย่างไร?

ตอบ: กระบวนการเผาผนึกพิเศษให้การคายก๊าซต่ำกว่าโลหะส่วนใหญ่